Gas especializado de alta pureza para aplicaciones de alta tecnología, particularmente en la industria de semiconductores. Este CO₂ es refinado a niveles de pureza de 99,999% o superior, garantizando impurezas mínimas que podrían interferir con procesos electrónicos sensibles. Esencial para deposición química de vapor, grabado por plasma y otras técnicas de fabricación de semiconductores.

Características Técnicas

• Tecnología de Purificación Avanzada: Utiliza destilación criogénica y procesos de adsorción físico-química para garantizar alta pureza

• Pureza Estable del Producto: Entrega dióxido de carbono con niveles de pureza superiores al 99,9%, con muy bajos niveles de impurezas como CO y H₂

• Alto Nivel de Automatización: Sistema soporta monitoreo remoto por red y operaciones no supervisadas

• Baja Pérdida de Materia Prima: Diseño de proceso enfocado en recuperación de energía, resultando en bajas pérdidas de producción

• Diseño de Proceso Flexible: Procesos personalizables según necesidades del cliente

Aplicaciones Industriales

• Industria Electrónica: Usado como gas láser para máquinas de corte láser y agente de enfriamiento para componentes electrónicos

• Fabricación de Semiconductores: Actúa como gas crucial en procesos de oxidación, difusión y deposición química de vapor

• Campo Médico: Aplicado en tecnologías como extracción supercrítica

• Fotovoltaicos y LEDs: Proporciona gases de alta pureza para producción de circuitos integrados y paneles LCD

• Aplicaciones Industriales: Ampliamente utilizado en varias reacciones y operaciones de procesamiento en sectores de alta tecnología

Especificações Técnicas Principais

• Pureza: ≥99,999% (99.999% ou superior)

• Impurezas Críticas: CO e H₂ em níveis ultra-baixos

• Processo: Destilação criogênica + Adsorção físico-química

• Automação: Monitoramento remoto via rede

• Customização: Design adaptável às necessidades específicas